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三氟化氮
化学式：NF3
纯度规格：5N
主要用途：清洗、刻蚀
主要应用领域：集成电路（LOGIC/DRAM/3D NAND）、 显示面板
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六氟化钨
化学式：WF6
纯度规格：6N
用途：沉积
主要应用领域：集成电路（LOGIC/DRAM/3D NAND）
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氯化氢
化学式：HCl
纯度规格：5N
用途：清洗、刻蚀
主要应用领域：集成电路（LOGIC/DRAM/3D NAND）
Details 白箭头 黑箭头
氟化氢
化学式：HF
纯度规格：5N
用途：清洗、刻蚀
主要应用领域：集成电路（LOGIC/DRAM/3D NAND）
Details 白箭头 黑箭头
四氟化硅
化学式：SiF4
纯度规格：5N
用途：沉积
主要应用领域：集成电路（LOGIC）、光纤
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氘气
化学式：D2
纯度规格：5N
用途：热处理、光纤抗老化处理
主要应用领域：集成电路（LOGIC/3D NAND）、光纤
Details 白箭头 黑箭头
氦氮混气、氙氢混气、氧氦混气、氪氖混气、氩氙氖混气等
纯度规格：6N
用途：刻蚀、退火、光刻等
主要应用领域：集成电路（LOGIC/DRAM/3D NAND）、显示面板、光纤
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六氟丁二烯
化学式：C4F6
纯度规格：4N
用途：刻蚀
主要应用领域：集成电路（LOGIC/DRAM/3D NAND）
Details 白箭头 黑箭头
八氟环丁烷
化学式：C4F8
纯度规格：5N
用途：清洗、刻蚀
主要应用领域：集成电路（LOGIC/DRAM/3D NAND）
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八氟丙烷
化学式：C3F8
纯度规格：5N5
用途：清洗、刻蚀
主要应用领域：集成电路（LOGIC/DRAM/3D NAND）
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六氟乙烷
化学式：C2F6
纯度规格：5N
用途：清洗、刻蚀
主要应用领域：集成电路（LOGIC/DRAM/3D NAND）、光纤
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